Type: Request for Proposals
Development of working documentation on a preliminary design within the framework of the project "Development of an electron beam lithography installation and basic technological processes for the formation of topological IC elements on a photomask with design standards of 150 nm and direct exposure of semiconductor wafers", code "Progress ELL 150" at the production site located at: 124527, Moscow, Zelenograd, Sunny alley, building 6, premises I, ground floor, room 29.
Разработка рабочей документации по эскизному проекту в рамках реализации проекта «Разработка установки электронно-лучевой литографии и базовых технологических процессов формирования на фотошаблоне топологических элементов ИС с проектными нормами 150 нм и прямого экспонирования полупроводниковых пластин», шифр «Прогресс ЭЛЛ 150» на производственной площадке, расположенной по адресу: 124527, г. Москва, Зеленоград, Солнечная аллея, дом. 6, помещения I, этаж цокольный, комната 29.